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pvd真空镀膜有哪些特点？
来源 : http://www.bsmy888.com/news/175.html 发布时间 : 2018-11-26
pvd真空镀膜有哪些特点？
各种镀膜技术都需要一个特定的真空环境，以保证制膜材料在加热蒸发或溅射过程中所形成蒸气分子的运动，不致受到大气中大量气体分子的碰撞、阻挡和干扰，并消除大气中杂质的不良影响。各种镀膜技术都需要有一个蒸发源或靶子，以便把蒸发制膜的材料转化成气体。由于源或靶的不断改进，大大扩大了制膜材料的选用范围，无论是金属、金属合金、金属间化合物、陶瓷或有机物质，都可以蒸镀各种金属膜和介质膜，而且还可以同时蒸镀不同材料而得到多层膜。
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联系人：于先生 电话：0515-86314888 地址：江苏省盐城市建湖县建阳工业园区
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