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靶材磁控真空镀膜的使用步骤

来源 : http://www.bsmy888.com/news/85.html   发布时间 : 2018-06-28
靶材磁控真空镀膜的使用步骤
各种镀膜技术都需要有一个蒸发源或靶子,以便把蒸发制膜的材料转化成气体。由于源或靶的不断改进,大大扩大了制膜材料的选用范围,无论是金属、金属合金、金属间化合物、陶瓷或有机物质,都可以蒸镀各种金属膜和介质膜,而且还可以同时蒸镀不同材料而得到多层膜。
蒸发或溅射出来的制膜材料,在与待镀的工件生成薄膜的过程中,对其膜厚可进行比较精确的测量和控制,从而保证膜厚的均匀性。
每种薄膜都可以通过微调阀精确地控制镀膜室中残余气体的成分和质量分数,从而防止蒸镀材料的氧化,把氧的质量分数降低到小的程度,还可以充入惰性气体等,这对于湿式镀膜而言是无法实现的。

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